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光學(xué)窗口片拋光時(shí)間過長會(huì)出現(xiàn)的現(xiàn)象
點(diǎn)擊次數(shù):3712 更新時(shí)間:2019-12-16
光學(xué)窗口片研磨拋光階段的工藝流程為:粗磨(一致化)-精磨(平坦化)-拋光(鏡面化)。其中,粗磨和精磨階段都是采取磨料沖擊破碎藍(lán)寶石表面的方式進(jìn)行,為純物理作用,拋光一般采用堿性二氧化硅溶膠,一邊對藍(lán)寶石表面進(jìn)行輕微腐蝕,一邊通過拋光墊掃除的方式達(dá)到鏡面效果,為CMP拋光,即化學(xué)物理拋光法。
由以上流程可知,藍(lán)寶石拋光是一個(gè)腐蝕—掃除的過程,其中,腐蝕的厚度僅僅達(dá)到埃米級(jí)。藍(lán)寶石拋光完結(jié)應(yīng)該是鏡片的所有部分都達(dá)到鏡面效果。
在日常加工中,經(jīng)常碰到光學(xué)窗口片拋光過長的現(xiàn)象,時(shí)間太長的會(huì)出現(xiàn)以下現(xiàn)象:
1.長方形特別是長條形的四個(gè)角拋不透;
2.表面有坑點(diǎn);
3.橘皮水紋等缺陷;
4.表面發(fā)蒙,霧化。
以上現(xiàn)象,除第三點(diǎn)外,基本都由研磨所產(chǎn)生。
光學(xué)窗口片的拋光是逐漸腐蝕的過程,而腐蝕的深度非常細(xì)微,藍(lán)寶石拋光時(shí)間長,無非就是腐蝕還沒達(dá)致全局,要想達(dá)致全局,只能延長拋光時(shí)間。
若光學(xué)窗口片表面出現(xiàn)坑點(diǎn),該如何處理?
表面坑點(diǎn)有兩種基本現(xiàn)象,一是個(gè)別坑點(diǎn)且全盤幾乎每片都有;二是單片上密布坑點(diǎn)。頭一種現(xiàn)象產(chǎn)生的原因是研磨砂個(gè)別大顆粒擠壓產(chǎn)生的坑點(diǎn),采取的方式是卸壓,即將上盤的壓力降低,甚至可以利用反壓,同時(shí)注意分析是否有碎屑、鐵屑或其他大號(hào)砂通過環(huán)境傳輸混入,若有此現(xiàn)象,必須清洗機(jī)器并過濾砂液,一般來講,混入少量的大顆粒研磨砂,通過研磨一定的時(shí)間后會(huì)消除。
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